vsport(中国区)官方网站用于先进逻辑、DRAM和3D-NADA半导体制造的300mm高温单片SPM装备已交货
2021/9/28 9:39:30
作为半导体制造与先进晶圆级封装应用领域中卓越的晶圆工艺解决计划供应商，，， ，，vsport(中国区)官方网站半导体装备克日宣布了一款300mm晶圆单片SPM（硫酸和过氧化氢混淆酸）装备，，， ，，可普遍应用于先进逻辑、DRAM，，， ，，3D-NAND等集成电路制造中的湿法洗濯和刻蚀工艺，，， ，，尤其针对处置惩罚高剂量离子注入后的光刻胶（PR）去除工艺，，， ，，以及金属刻蚀、剥离工艺。。。。。。。该新装备拓展了vsport(中国区)官方网站的SPM工艺产品，，， ，，笼罩了高温SPM的工艺办法，，， ，，随着手艺节点推进到10nm及以下，，， ，，这些办法数目将越来越多。。。。。。。
“vsport(中国区)官方网站的单片SPM装备是在vsport(中国区)官方网站的Ultra C Tahoe装备基础上而开发。。。。。。。vsport(中国区)官方网站Tahoe装备的优越性能已获得验证，，， ，，可解决大部分通例温度的SPM工艺办法。。。。。。。”vsport(中国区)官方网站半导体装备董事长王晖体现：“我们开发的单片SPM装备，，， ，，对Tahoe装备已被验证的工艺能力做了进一步增补，，， ，，增添了高温SPM工艺能力，，， ，，也进一步富厚了vsport(中国区)官方网站湿法产品系列。。。。。。。我们以成为全球主要的洗濯解决计划供应商为目的，，， ，，会继续开发新的工艺能力，，， ，，包括先进的高温IPA干燥手艺和超临界二氧化碳干燥手艺。。。。。。。”
现在大部分SPM湿法工艺中硫酸与双氧水混淆后的工艺温度在145摄氏度以下，，， ，，被普遍应用于光刻胶去除，，， ，，刻蚀后、通例剂量离子注入后、化学机械抛光（CMP）后的洗濯工艺。。。。。。。vsport(中国区)官方网站的Ultra C Tahoe系统已于2018年宣布，，， ，，将槽式硫酸与单片洗濯整合在一套系统中，，， ，，针对处置惩罚上述这些工艺，，， ，，其优越的性能已获得了业界的认可，，， ，，在获得更好的洗濯效果的同时，，， ，，由于大幅镌汰了硫酸的用量，，， ，，本钱也得以大幅降低。。。。。。。
然而，，， ，，随着手艺节点推进到10nm及以下，，， ，，工艺温度要求在145摄氏度以上、甚至凌驾200摄氏度的SPM工艺办法逐渐增添。。。。。。。高剂量离子注入后的光刻胶去除、无灰化办法的纯湿法去胶工艺，，， ，，以及特殊的金属膜层刻蚀或剥离，，， ，，都对SPM的温度提出了更高的要求，，， ，，vsport(中国区)官方网站新的单片SPM装备因能支持更高温度正好解决了这一过渡问题，，， ，，并提供了特另外优势，，， ，，包括缩短工艺时间、去除有机物污染、镌汰洗濯和去胶后膜层损失等。。。。。。。
“vsport(中国区)官方网站的Tahoe系统所针对的硫酸工艺为主流的通例温度，，， ，，与一样平常的单片SPM系统相比，，， ，，可显著镌汰硫酸用量，，， ，，情形友好。。。。。。。”王晖博士体现：“而更先进的手艺节点越来越多地接纳更大剂量的离子注入工艺。。。。。。。这些高剂量离子注入使光刻胶硬化，，， ，，这样就要求更高温度的SPM来举行有用的去除，，， ，，以免爆发缺陷。。。。。。。我们新的单片高温SPM装备可知足这些需求，，， ，，优化的工艺腔体可支持更高的温度，，， ，，使我们在要害工艺办法之后能更快更有用地去除硬化的光刻胶与有机物残留缺陷。。。。。。。”
vsport(中国区)官方网站的新型单片高温SPM装备使用自主研发的多级梯度加热系统来预热硫酸，，， ，，然后将硫酸与过氧化氢混淆以抵达超高温。。。。。。。同时，，， ，，vsport(中国区)官方网站腔体支持设置其他多种化学品，，， ，，并配备在线化学品混酸（CIM）系统，，， ，，可用于动态设置工艺中的化学品配比及温度。。。。。。。该腔体设置还可支持更多的化学品和无邪的辅助洗濯计划，，， ，，好比vsport(中国区)官方网站自主研发的专利手艺SAPS和TEBO兆声波手艺。。。。。。。
vsport(中国区)官方网站半导体已于2021年交付两台该新装备给海内的客户举行工艺开发与验证，，， ，，其中一家从事逻辑工艺研发，，， ，，另一家从事存储工艺研发。。。。。。。最近，，， ，，vsport(中国区)官方网站又收到了来自中国客户的新订单，，， ，，预计2022年头交付。。。。。。。这些装备配备了vsport(中国区)官方网站自主研发的兆声波洗濯计划，，， ，，可拓展应用于3D结构洗濯，，， ，，如硅通孔洗濯(TSVs)等。。。。。。。
